Проекционная фотолитография в глубоком ультрафиолете

Контрольная работа, 26 Мая 2013, автор: пользователь скрыл имя

Краткое описание


Последние полвека характеризовались беспрецедентно высокими темпами развития микроэлектроники. При этом эволюция большинства показателей микроэлектроники носит экспоненциально быстрый характер, и до настоящего времени не всегда можно разглядеть даже начальные признаки замедления, не говоря уже о стагнации. Есть основания полагать, что первопричиной такого характера изменений самых различных показателей явилась возможность последовательного и непрерывного уменьшения минимального характеристического размера элемента интегральной схемы amin, также носящего экспоненциальный характер (этот характеристический размер называют также „технологическим стандартом“ или критическим размером — Critical Dimension, CD).

Файлы: 1 файл

Микросхемы.doc

— 426.00 Кб (Открыть, Скачать)

Открыть текст работы Проекционная фотолитография в глубоком ультрафиолете