Диффузия при производстве ИМС
Доклад, 26 Декабря 2010, автор: пользователь скрыл имя
Краткое описание
Для легирования поверхности полупроводниковых пластин при изготовлении ИМС используют диффузию и ионное леги-рование. Диффузия является наиболее широко распространен¬ным методом легирования.