Автор: Пользователь скрыл имя, 08 Апреля 2013 в 22:45, реферат
Для большинства методов электроразведки основное влияние на характер распространения электромагнитного поля в земле оказывает удельное электрическое сопротивление (r). В общем случае основной задачей электроразведки является нахождение распределения удельного электрического сопротивления горных пород как функции пространственных координат r(x, y, z). Карта распределения этой функции по глубине в вертикальной плоскости или в пространстве называется геоэлектрическим разрезом.
ВВЕДЕНИЕ
Методы, основанные на изучении естественных
и искусственно создаваемых в
земле электромагнитных полей, объединяются
под общим названием электрораз
Для большинства методов
Прямая задача электроразведки заключается в нахождении электромагнитного поля, возбуждаемого заданной системой источников в данной модели геоэлектрического разреза.
Обратная задача заключается в восстановлении геоэлектрического разреза по электромагнитному полю, измеренному в некоторой части пространства (на поверхности земли, в скважине, шахте и т.д.). При этом геофизик либо знает параметры источников поля (в методах, использующих искусственные источники), либо не знает (в методах, использующих естественные источники).
По природе изучаемых
МЕТОДЫ СОПРОТИВЛЕНИЙ
Методы постоянного тока основаны на изучении постоянных, а также низкочастотных (до 20 Гц) переменных электрических полей, для которых справедлива теория постоянных полей. Среди методов постоянного тока основную группу составляют методы сопротивлений: электропрофилирование (ЭП) и электрозондирование (вертикальное - ВЭЗ и дипольное - ДЗ)).
Общие сведения о методах сопротивлений
Кажущееся сопротивление
Первичное поле при работе методом
сопротивлений создается
Рис.1. Четырехэлектродная установка AMNB.
Предположим, что на дневной поверхности в точках A и B (рис.1.) расположены электроды (заземления), через которые в землю от какого-либо источника поступает ток. Пусть электрод А присоединен к положительному полюсу источника тока (+I), а электрод В - к отрицательному (-I). Эти электроды будем называть питающими. Электрическое поле питающих электродов можно исследовать, измеряя разность потенциалов между двумя точками земли (M и N), в которые также помещены электроды. Эти электроды будем называть измерительными или приемными. В практике электроразведки в качестве питающих и приемных электродов чаще всего применяются стержневые электроды. Ниже приведены формулы для потенциалов точечных источников (электродов А и В). В теории электроразведки показано, что для стержневых электродов на бульших по сравнению с глубиной заземления расстояниях от питающего электрода, потенциал можно вычислять по формуле точечного источника.
Поле точечного источника A силой I на поверхности однородного полупространства с удельным электрическим сопротивлением r характеризуется радиальным растеканием тока и эквипотенциальными поверхностями в виде полусфер. Плотность тока в точке М, удаленной от источника на расстояние rAМ равна (1), где S - площадь сечения, через которую проходит весь ток, т.е. площадь полусферы (верхнее полупространство - воздух ( )). Используя закон Ома в дифференциальной форме, устанавливающий связь между напряженностью электрического поля Е и плотностью тока (2) и выражение для потенциала (3), можно записать (4). Отсюда потенциал точечного источника А в точке М равен интегралу по r от до данной точки:
Потенциал точечного источника В в точке М равен (6). Так как потенциальная функция обладает свойством аддитивности (суперпозиции), потенциал точки М является алгебраической суммой потенциалов точечных источников А и В: (7). Аналогично для потенциала точки N: (8). Теперь можно определить разность потенциалов между измерительными электродами:
Отсюда можно определить сопротивление однородной среды, заполняющей нижнее полупространство:
Введя обозначение (11), получим окончательно (12).
Величину , зависящую только от взаимного расположения питающих и приемных электродов, называют геометрическим коэффициентом установки.
Реальная среда, которую изучает электроразведка, не является однородным полупространством. Поэтому подставив в формулу (12) результаты измерений, получим не истинное удельное сопротивление, а некоторую величину, называемую кажущимся сопротивлением rК.
Понятие кажущегося удельного электрического сопротивления было введено для удобства анализа и интерпретации наблюдаемого электрического поля. Кажущееся сопротивление rК - это наблюденное электрическое поле, нормированное по параметрам установки таким образом, что в однородном полупространстве кажущееся сопротивление совпадает с истинным удельным сопротивлением. Кажущееся сопротивление рассчитывают по формуле:
(13),
где - разность потенциалов между приемными электродами (M и N), I - ток в питающей линии АВ, а - геометрический коэффициент установки. Размерность - в метрах, а rК в Ом·м.
Глубинность методов сопротивлений
Рассмотрим, как меняются потенциал и электрическое поле вдоль прямой, соединяющей точечные источники A и B. По формуле (7) (14), где L - расстояние между электродами А и В, x - координата точки M, находящейся на прямой AB (рис.2.).
В соответствии с (14) напряженность поля E вдоль оси x определяется выражением:
Рис.2. Поле двух точечных разнополярных источников.
А - Графики U и E.
Б - Эквипотенциальные поверхности и токовые линии.
Графики U и E вдоль прямой АВ показаны на рис.2A. Силовые и эквипотенциальные линии поля двух точечных источников в однородном полупространстве в вертикальной плоскости, проходящей через А и В, показаны на рис.2Б. Видно, что в средней трети отрезка АВ напряженность поля двух точечных источников практически постоянна, т.е. в этой области поле близко к однородному.
Рассчитаем плотность тока от источников А и В в точке P, расположенной на вертикальной прямой, проходящей через середину отрезка АВ. Точка P находится на глубине h от поверхности однородного полупространства (рис.3.). В точке P(L/2, h) вектор плотности тока j равен геометрической сумме векторов плотности тока от источников А и В:
Рис.3. К выводу зависимости плотности тока от глубины для поля двух точечных источников:
1 - для электродов A1B1;
2 - для электродов A2B2.
На поверхности однородного полупространства (h=0) плотность тока максимальна.
Вычислим отношение плотности тока на глубине h к плотности тока на поверхности однородного полупространства:
Если не менять расстояние между А и В равное L плотность тока с увеличением глубины h будет убывать. Расчеты показывают, что в однородном полупространстве до глубины h=АВ/2=L/2 протекает половина тока I/2, посланного в землю. На глубине h=L плотность тока составляет менее 9% от плотности тока на поверхности. Для того чтобы с увеличением глубины h плотность тока не изменялась, надо пропорционально увеличивать расстояние L/2=АВ/2.
Рис.4. Графики зависимости
Увеличение расстояния между А и В приводит к увеличению относительной плотности тока на данной глубине (рис.4.). Иными словами, чем больше расстояние между питающими электродами, тем глубже электрический ток проникает в землю. В неоднородных средах соотношение (17) между относительной плотностью тока и расстояниями между источниками поля и точкой наблюдения значительно сложнее, однако отмеченная выше закономерность в общем сохраняется и широко используется в электроразведке.
Под глубинностью исследования понимается глубина, до которой параметры геоэлектрического разреза влияют на результаты измерений.
Практически глубинность методов сопротивлений зависит от применяемой электроразведочной установки, особенностей изучаемого разреза и составляет (1/3 1/10) от разноса R (см. раздел «Установки методов сопротивлений»).
Установки методов сопротивлений
Термин «установка» в методах сопротивлений используется для обозначения взаимного расположения и числа приемных и питающих электродов. Установки отличаются глубинностью, разрешающей способностью. Выбор установки является важнейшим элементом методики электроразведки и зависит, в первую очередь, от поставленной задачи, а также от технических и экономических возможностей проведения измерений.
Табл.1. Установки метода сопротивлений.
Если в четырехэлектродной установке AM<AN<1/5AB, то разность потенциалов между приемными электродами M и N будет определяться лишь питающим электродом А, а влиянием питающего электрода В можно пренебречь и считать его находящимся в «бесконечности». Такие установки называются трехэлектродными (AMN). В двухэлектродной (АМ) установке питающий электрод В и приемный электрод N отнесены в «бесконечность» (табл.1.).
Наиболее часто используются установки Шлюмберже, Веннера и различные дипольные установки (экваториальная - ДЭЗ, осевая - ДОЗ и другие) (табл.1.). В дипольных установках питающие (AB) и приемные (MN) электроды сближены настолько, что расстояния rAB и rMN намного меньше, чем расстояние между центрами отрезков AB и MN.
Разносом (R) называется некоторый геометрический параметр установки, характеризующий ее глубинность. Для симметричной четырехэлектродной установки Шлюмберже R=АВ/2, т.е. её глубинность - (1/3 1/10) АВ/2. Для других установок в качестве разносов выбирают такие их геометрические параметры, чтобы глубинность этих установок была близка к глубинности установки Шлюмберже. В дипольной осевой
установке напряженность поля электрического диполя (AB) затухает как 1/r3, т.е. быстрее, чем поле точечного источника. Для коррекции потери глубинности в качестве разноса этой установки принимают половину расстояния между центрами приемного и питающего диполей (табл.1.).
Геометрический коэффициент
Точкой записи установки называется точка, к которой относятся измеренные значения и рассчитанные по ним значения rК (табл.1.).
Принцип взаимности
Принцип взаимности состоит в том, что величина кажущегося сопротивления, измеренного любой установкой, остается постоянной, если приемные электроды M и N сделать питающими, а разность потенциалов измерять на заземлениях A и B. В самом деле, для однородной среды формула для потенциала не изменится, если заменить AM на MA, BM на MB. В случае неоднородной среды принцип взаимности сохраняется.
Физический смысл кажущегося сопротивления
Для симметричной четырехэлектродной установки (АМ=NB, MN<<AB) , где , а (18).
Поскольку , то, учитывая что, по формуле (16) плотность тока на поверхности однородного полупространства выражение (18) перепишется в виде:
(19),
где jMN И rMN.- плотность тока и сопротивление среды вблизи приемных электродов, j0 - плотность тока в однородной среде. Пользуясь выражением (19), можно дать качественную картину изменения rК над средой с неоднородными включениями.